磷化銦基板喊缺! NVIDIA"光銅并行"再點亮化合物半導體
受惠光通訊產品需求爆發(fā),全新光電、英特磊、穩(wěn)懋、環(huán)宇和宏捷科等臺系化合物半導體廠營運動能看增,供應鏈人士表示,磷化銦(InP)材料面臨基板短缺,AI數(shù)據(jù)中心需求強勁,亦加劇市場供不應求的狀況,成為AI追求高速傳輸必須克服的供應瓶頸。
NVIDIA于GTC 2026首度定調,隨著AI算力需求持續(xù)攀升,未來數(shù)據(jù)中心互連將同時需要更多銅纜、光通訊與共同光學封裝(CPO)產能,也就是明確拋出了「光銅并行」說法。 業(yè)界表示,目前市場主流的光模組技術為800G,未來也將朝向1.6T更高規(guī)格發(fā)展。
產業(yè)人士指出,隨著芯片運算速度提高,AI數(shù)據(jù)中心發(fā)展最大的瓶頸是傳輸速度,磷化銦(InP)除了電子流動速度快,更適合高頻應用,耐熱特性也能在高溫環(huán)境下展現(xiàn)較好的穩(wěn)定度和調控效率,幾乎成為唯一的材料選擇。
不過,現(xiàn)在既有舊數(shù)據(jù)中心汰換需求,新建的AI數(shù)據(jù)中心投資規(guī)模也擴大,帶動光通訊元件的需求增加很多,原廠產能無法立即跟上,加上InP基板短缺問題未全面解決,市場仍處于供不應求的狀態(tài)。
化合物半導體廠商表示,全世界最大的InP基板供應商是日本Sumitomo、以及生產基地在中國的美國AXT,德國Freiberger也有供應,另也有法國和日本供應商在產量上有突破,但由于InP生產機臺要可以抗3倍的大氣壓力,日本規(guī)定生產相關產品的驗證時間需18個月,因此供給端的產能紓解,仍須一段時間。
英特磊董事長高永中日前則表示,受到中國出口管制影響,2025年下半遇到基板短缺問題,InP磊晶比例稍微下滑,公司已采取由部分客戶提供基板材料,截至2025年第4季客戶提供基板材料占比低于20%,2026年可能超過30%。
光模組主要由發(fā)射和接收端組成,英特磊表示,InP 200G PIN接收組件將為2026年成長主力,并開發(fā)200G面射型激光(VCSEL)磊晶片,以及發(fā)展量子點激光磊芯片,目前光通訊產品占比51.8%,已高于電子產品。
環(huán)宇在接收和發(fā)射端皆有布局,2026年將量產200G PD和CW Laser產品,其中70mW CW Laser則已完成認證,準備開始量產,大客戶的200G PD則預計第2季進入量產。
穩(wěn)懋先前在法說會上表示,PD、CW DFB和EML等產品,已進入驗證階段,因驗證時間差異,接收端有機會在2026年貢獻營收。






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