分子束外延
分子束外延的英文縮寫為MBE,這是一種在晶體基片上生長高質量的晶體薄膜的新技術。在超高真空條件下,由裝有各種所需組分的爐子加熱而產生的蒸氣,經小孔準直后形成的分子束或原子束,直接噴射到適當溫度的單晶基片上,同時控制分子束對襯底掃描,就可使分子或原子按晶體排列一層層地“長”在基片上形成薄膜。該技術的優點是:使用的襯底溫度低,膜層生長速率慢,束流強度易于精確控制,膜層組分和摻雜濃度可隨源的變化而迅速調整。用這種技術已能制備薄到幾十個原子層的單晶薄膜,以及交替生長不同組分、不同摻雜的薄膜而形成的超薄層量子阱微結構材料。