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資騰亮相SEMICON China展示CMP超潔凈刷輪，助力先進(jìn)制程良率提升
- 資騰科技將亮相SEMICON China國(guó)際半導(dǎo)體展，展示CMP（Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機(jī)械研磨） 超潔凈空氣PVA刷輪。針對(duì)埃米時(shí)代對(duì)晶圓潔凈度與先進(jìn)制程穩(wěn)定性的更高要求，該刷輪可有效降低微粒與制 程殘留，縮短預(yù)清潔時(shí)間，并減少晶圓空片用量，同時(shí)實(shí)現(xiàn)100%去離子水透水率，全面強(qiáng)化先進(jìn)制程與先進(jìn)封 裝良率。 資騰于2026年3月25日至27日參加SEMICON China國(guó)際半導(dǎo)體展，并在上海新國(guó)際博覽中心N3館 3187號(hào)展臺(tái)展 示多項(xiàng)先進(jìn)制程解決方
- 關(guān)鍵字： 資騰 EMICON China CMP超潔凈刷輪 先進(jìn)制程 良率提升
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