- 分子束外延(MBE)技術在生長半導體與超導體疊層的量子計算器件結構方面表現卓越。20 世紀初,伴隨量子理論誕生的第一次量子革命拉開帷幕。如今,人類正立足此次革命的成果邁入第二次量子革命—— 這一時代的核心特征是對量子現象的操控、調控與利用,目標是創造全新的量子技術產品,而量子計算的問世正是這一時代的關鍵標志。量子計算這一重大技術突破備受矚目,相關報道不僅見于專業科技媒體,也頻頻登上主流媒體版面。全球越來越多的實驗室正推動該領域發展,谷歌(字母表公司)、亞馬遜、元宇宙(原臉書)、蘋果、微軟這五大科技巨頭(簡
- 關鍵字:
分子束外延 MBE 量子比特
分子束外延介紹
分子束外延的英文縮寫為MBE,這是一種在晶體基片上生長高質量的晶體薄膜的新技術。在超高真空條件下,由裝有各種所需組分的爐子加熱而產生的蒸氣,經小孔準直后形成的分子束或原子束,直接噴射到適當溫度的單晶基片上,同時控制分子束對襯底掃描,就可使分子或原子按晶體排列一層層地“長”在基片上形成薄膜。該技術的優點是:使用的襯底溫度低,膜層生長速率慢,束流強度易于精確控制,膜層組分和摻雜濃度可隨源的變化而迅速調 [
查看詳細 ]
關于我們 -
廣告服務 -
企業會員服務 -
網站地圖 -
聯系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司

京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網安備11010802012473